PRESS RELEASE 経営・業績

北海道千歳市における 先端半導体R&D拠点形成に関する連携協定を締結

NTTドコモビジネス株式会社(旧 NTTコミュニケーションズ株式会社、以下 NTTドコモビジネス)は、2026年10月23日に千歳市および三菱地所株式会社(以下 三菱地所)と、北海道千歳市工業団地 千...

出典: NTTドコモビジネス株式会社

NTTドコモビジネス株式会社が@Pressで配信したプレスリリースの原文を、Zero Press が転載して掲載しています。

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 NTTドコモビジネス株式会社(旧 NTTコミュニケーションズ株式会社、以下 NTTドコモビジネス)は、2026年10月23日に千歳市および三菱地所株式会社(以下 三菱地所)と、北海道千歳市工業団地 千歳美々ワールド※1内における先端半導体研究開発・イノベーション推進拠点「(仮称)Chitose Technology Frontier」の形成に向けた連携協定(以下 本協定)を締結しました。

1.背景

 北海道千歳市では、Rapidus株式会社による次世代半導体の研究・開発・製造拠点のほか、国立研究開発法人産業技術総合研究所(以下 産総研)による最新鋭のHigh-NA型EUV露光装置※2を備えた拠点、および技術研究組合最先端半導体技術センター(以下 LSTC)による先端後工程オープンイノベーション拠点※3の整備が進められています。このような半導体産業の集積を活かし、国内外の企業、大学、研究機関が集う次世代半導体を核とした幅広い分野のR&Dを推進します。また、国内外の研究者・技術者が交流・共創できる環境の構築をめざし、千歳市工業団地 千歳美々ワールドにおいて、NTTドコモビジネス、千歳市、三菱地所が連携して取り組むこととなりました。

2.本協定の概要

 NTTドコモビジネスは各者と、それぞれの事業領域や有する資源を有効に活用し、掛け合わせていくことで、北海道千歳市工業団地 千歳美々ワールドにおいて、国内外の企業、大学、研究機関および行政など多様な主体が、次世代半導体を核とした幅広い分野のR&Dに連携して取り組む拠点「(仮称)Chitose Technology Frontier」を形成することを目的に、本協定を締結しました。

 3者は、本R&D拠点の形成に向け、以下の事項について相互に連携しながら取り組みます。

(1)R&D拠点形成に向けた事業全般の企画・推進に関する事項

(2)R&D拠点形成に向けた開発用地の権利保全に関する事項

(3)R&D拠点形成に必要なインフラ整備、企業立地・共創環境の創出に関する事項

(4)R&D拠点への企業誘致、大学・研究機関との連携促進、運営組織組成に関する事項

3.各者の役割

千歳市:全体統括、総合企画

三菱地所:エリア開発の企画・推進

NTTドコモビジネス:ICT基盤整備の企画・推進

4.今後の展開

 NTTドコモビジネスと各者は、本協定にもとづき、相互に連携しながら、「(仮称)Chitose Technology Frontier」の形成に向けた具体的な検討を加速させていきます。

このR&D拠点は、次世代半導体を核としつつ、関連する幅広い分野における技術革新を推進するオープンイノベーションの場となることをめざします。さらに、「産学官」が有機的に連携し、新たな価値創造と社会課題解決に貢献していきます。

「NTTコミュニケーションズ株式会社」は2025年7月1日に社名を「NTTドコモビジネス株式会社」に変更しました。私たちは、企業と地域が持続的に成長できる自律・分散・協調型社会を支える「産業・地域AXのプラットフォーマー」として、新たな価値を生み出し、豊かな社会の実現をめざします。

https://www.ntt.com/about-us/strategy.html

※1:北海道千歳市工業団地 千歳美々ワールドとは、北海道千歳市美々に位置する工業団地です。新千歳空港に近接する立地特性を有し、半導体関連産業などの立地が進められている産業集積エリアです。

※2:High-NA EUV露光装置とは、最先端半導体の研究開発・製造に用いられ、従来よりも高い解像度を実現する次世代の露光装置です。

※3:先端後工程オープンイノベーション拠点とは、技術研究組合最先端半導体技術センター(LSTC)が整備を進める半導体の後工程に関する研究開発を行うオープンイノベーション拠点です。

別紙

本R&D拠点の特徴                                    

1.新千歳空港、先端半導体研究開発拠点に近接する立地を生かした研究開発環境

新千歳空港を擁する国内外との優れたアクセス性、産総研、LSTCの研究・開発拠点や次世代半導体製造拠点との近接性を生かし、研究開発や国内外の人材交流を支える環境づくりを進めます。

2.前工程から後工程までの一貫した研究開発・検証により、先端半導体の開発を加速

世界水準の研究・製造基盤やオープンR&D機能の集積を図り、前工程から後工程までの研究開発・検証を一貫して行える環境を形成します。各工程の連携を通じて開発ループの加速をめざします。

3.Rapidusをはじめ国内外の多様なプレーヤーとの共創を通じた、産業連携と人材育成の促進

国内外の企業・研究機関などの交流・研究連携を促し、フィジカルAIやGXなどの需要産業との接続を図ります。あわせて、半導体人材の育成・採用につながる環境を整え、新たな価値の創出をめざします。

▲イメージパース(作成:株式会社三菱地所設計)

  ※今後変更となる可能性があります。

関連リンク

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ニュース 2026年9月2日:NTTドコモビジネスと千歳市、次世代半導体産業振興およびまちづくりに関する包括連携協定を締結|NTTドコモビジネス 企業情報

https://www.ntt.com/about-us/press-releases/news/article/2026/0902.html?msockid=36eea3dc421b627d2858b67a43616397

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NTTドコモビジネス株式会社(Zero Press 掲載 33 本)
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カテゴリ
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