日本市場におけるEUVリソグラフィ向け計測・検査装置の市場規模：売上規模・シェア・主要事業者別ランキング

LP Informationはこのたび、産業調査レポート『世界EUVリソグラフィ向け計測・検査装置市場の成長予測2026～2032』を発行した。本レポートでは、EUVリソグラフィ向け計測・検査装置の製品定義、技術ロードマップ、市場規模、競争環境、用途分野、地域構造、サプライチェーンの変化を調査している。本稿では、先端ロジック、先端メモリ、EUVマスク製造、ウェーハファブのプロセス制御、歩留まり改善における需要変化、技術進化、サプライチェーン機会に焦点を当てる。

EUVリソグラフィ向け計測・検査装置とは、EUVプロセス開発、マスク製造、ウェーハパターニング制御、欠陥検出、クリティカルディメンション計測、オーバーレイ制御、パターン忠実度評価、歩留まり改善に用いられる半導体製造装置を指す。これらの装置は、電子線イメージング、光学計測、EUV波長イメージング、散乱計測、CD-SEM、欠陥レビュー、レチクル品質管理、データ解析ソフトウェアなどを統合し、高分解能、高安定性、高再現性、低ダメージ検査、先端ノード向けインライン制御などの特徴を有する。主な機能は、EUVパターン欠陥の検出、クリティカルディメンションとエッジラフネスの計測、マスク欠陥の転写影響評価、プロセスウィンドウ最適化支援、先端ノード量産に向けたフィードバック制御データの提供である。

本調査対象は、EUVプロセスノード向けのウェーハ計測装置、ウェーハ欠陥検査装置、電子線欠陥レビュー装置、EUVマスク/レチクル計測・検査装置、マスク関連補正・検証システム、先端プロセス制御ソフトウェア、関連自動化モジュールを中心に扱う。EUVが7nm、5nm、3nmから2nmおよびHigh-NA EUVへ進展するにつれ、パターン寸法、オーバーレイ誤差、確率的欠陥、マスク3D効果、多層構造計測の難易度が高まっている。そのため、計測・検査装置は補助的なプロセス制御ツールから、先端プロセス導入、歩留まり立ち上げ、安定量産を支える重要装置へと進化している。

LP Informationの予備調査によると、2025年の世界EUVリソグラフィ向け計測・検査装置市場規模は約US$4,860.00 million、2026年は約US$5,420.00 million、2032年には約US$9,893.54 millionに達すると見込まれ、2026年から2032年までの年平均成長率は約10.55%である。上記市場規模は、EUVプロセスノード向けのウェーハパターン計測、ウェーハ欠陥検査、電子線レビュー、EUVマスク/レチクル計測・検査、プロセス制御ソフトウェア、関連自動化システムを主に対象としている。需要面では、先端ロジックノードの継続的な微細化、先端DRAMおよびHBM工程の高度化、EUVマスク品質管理要求の上昇、ウェーハファブにおける確率的欠陥および系統的欠陥の検出能力向上、High-NA EUV導入前後の計測需要増加が成長を牽引している。供給面では、主要企業がマルチビーム電子線、高スループットCD-SEM、EUV actinic mask inspection、AI欠陥分類、プロセスデータの閉ループ化、グローバル顧客サポート能力に投資している。SEMIによると、2025年の世界半導体製造装置売上高は1,351億米ドルとなり、前年比15%増加した。先端ロジック、メモリ、AI関連能力投資が重要な背景となっており、EUV関連計測・検査装置の需要拡大を支えている。業界全体としては、EUV量産の深化とHigh-NA EUV導入準備が並行して進む段階にあり、今後の市場増分は2nm以下のロジック工程、先端DRAMと多層EUV適用、マスク製造・修復、ファブの歩留まり管理高度化、中国、韓国、台湾、米国、欧州における先端ファブ投資から生まれる見通しである。

世界のEUVリソグラフィ向け計測・検査装置市場は、高い技術障壁、長い顧客認定期間、比較的高い市場集中度を特徴としている。代表的な主要企業には、KLA、ASML/HMI、Lasertec、Applied Materials、Hitachi High-Tech、ZEISS SMT、Onto Innovation、Nova、Brukerなどが含まれる。KLAはウェーハ検査、欠陥レビュー、レチクル品質管理、プロセス制御で強い地位を有する。ASML/HMIは、リソグラフィエコシステムとマルチビーム電子線検査技術を活用し、e-beam wafer inspectionとリソグラフィ閉ループ制御を強化している。LasertecはEUVマスクブランクおよびパターンマスクのactinic検査で高い認知度を持ち、ACTIS A300シリーズはLow-NAおよびHigh-NA EUVマスク検査需要に対応している。ZEISS SMTはEUV光学、マスク計測、AIMS EUVにおいて重要な役割を担う。Applied Materials、Hitachi High-Tech、Nova、Onto Innovation、Brukerは、CD-SEM、eBeam metrology、光学計測、薄膜・材料計測、AFMなどの細分分野で差別化された競争力を形成している。