PRESS RELEASE 調査・レポート 2026/11/12 11:00

リソグラフィ装置用超精密光学システムの世界市場（2026年～2032年）、市場規模（屈折型、反射型）・分析レポートを発表

株式会社マーケットリサーチセンターが@Pressで配信したプレスリリースの原文を、Zero Press が転載して掲載しています。

株式会社マーケットリサーチセンター（本社：東京都港区、世界の市場調査資料販売）では、「リソグラフィ装置用超精密光学システムの世界市場（2026年～2032年）、英文タイトル：Global Ultra-Precision Optical System for Lithography Machines Market 2026-2032」調査資料を発表しました。本資料には、リソグラフィ装置用超精密光学システムの世界市場規模、市場動向、セグメント別予測（屈折型、反射型）、関連企業の情報などが盛り込まれています。

主な掲載内容

リソグラフィ装置向け超精密光学システムの世界市場規模は、2025年の51億1400万米ドルから2032年には85億7300万米ドルへと拡大すると予測されており、2026年から2032年にかけて年平均成長率（CAGR）7.5％で成長すると見込まれています。

リソグラフィ装置用超精密光学システムは、ビーム整形、照明制御、パターンの縮小・投影、収差補正、焦点合わせおよび位置合わせのサポート、長期安定性制御を統合した中核的な撮像サブシステムである。これは、マスクパターンをナノスケールの精度でウェハ表面に転写するために利用され、リソグラフィ装置の解像度、撮像品質、オーバーレイ精度、および高度なプロセス能力を決定づける重要な中核コンポーネントとして機能する。この光学システムにおいて、最も重要なコンポーネントは照明光学系と投影光学系である。

リソグラフィ装置用超精密光学システムの上流サプライチェーンは、主に水銀ランプ、エキシマレーザー、高出力CO₂レーザー、レンズ、ミラー、コレクター、プリズムなどの主要コンポーネントで構成されている。その直接の下流顧客は、最終製品の電子機器メーカーではなく、リソグラフィ装置の完成機メーカーである。これらの装置メーカーは、照明システム、投影光学系、コレクター、反射光学モジュール、その他のサブシステムを完成機に組み込み、それをウェハーファブ、IDM、および先進パッケージング施設に販売する。

2025年、リソグラフィ装置用超精密光学システムの世界販売台数は約672台に達し、世界平均市場価格は1台あたり約778万米ドルでした。生産能力はメーカーによって大きく異なり、粗利益率は約40%から60%の範囲にあります。

リソグラフィ装置用超精密光学システムの役割は、フォトマスク上のパターンを所定の倍率に縮小し、収差を補正して、シリコンウェーハの表面に安定して投影することです。 ASMLはリソグラフィ装置を明確に「投影システム」と定義しているのに対し、ZEISSは自社のEUV光学システムを「照明システム」と「投影光学系」という2つの主要コンポーネントに直接区分している。技術的アプローチの観点では、DUV技術は主に高精度レンズアセンブリに依存している。一方、EUV技術は、その13.5nmの光が空気やほとんどの材料によって強く吸収されるため、真空環境下での多層ミラーシステムを採用しなければならない。この固有の要件により、業界には「高い光学精度、高い光機械的結合、および高レベルの環境制御」を特徴とする複雑な一連の属性が課せられている。

リソグラフィ装置内の超精密光学システムは、半導体製造装置サプライチェーン全体において、最も集約されたセグメントの一つであり、かつ参入障壁が最も高い分野の一つを構成している。ハイエンドEUV光学系は、基本的にASMLとZEISSのエコシステムを中心に展開している。ASMLは、自社のリソグラフィシステムが1980年代後半からZEISSの光学系を採用していると公言している。同様に、ZEISSも、世界の半導体チップの約80％が、戦略的パートナーであるASMLの光学系と組み合わせてZEISSの光学系を搭載したシステムを使用して製造されていると公言している。同時に、EUV光源のサプライチェーンはTRUMPF社の高出力CO₂駆動レーザーと深く統合されており、これにより「完成機、中核光学系、そして重要な光源」にまたがる、極めて相乗効果の高い供給構造が確立されている。本質的に、この分野は単なる汎用光学部品の市場ではなく、選りすぐられた少数の業界リーダーが、長期的な共同研究開発、共同生産の拡大、相互検証に取り組む戦略的な産業エコシステムである。

「リソグラフィ装置用超精密光学システム市場予測」では、過去の売上実績を検証し、2025年の世界全体のリソグラフィ装置用超精密光学システムの売上高を分析するとともに、2026年から2032年までの予測売上高について、地域および市場セクター別の包括的な分析を提供しています。本レポートでは、リソグラフィ装置用超精密光学システムの売上高を地域、市場セクター、およびサブセクター別に分類し、世界市場について数百万米ドル単位で詳細な分析を提供しています。

本インサイトレポートは、リソグラフィ装置用超精密光学システムの世界市場動向を包括的に分析し、製品セグメンテーション、企業動向、収益、市場シェア、最新の開発動向、M&A活動に関連する主要なトレンドを明らかにします。また、本レポートでは、リソグラフィ装置用超精密光学システムのポートフォリオと能力、市場参入戦略、市場での位置づけ、および地理的展開に焦点を当て、世界的なリソグラフィ装置用超精密光学システム市場の加速する動向における各企業の独自の立場をより深く理解するために、主要グローバル企業の戦略を分析しています。

本インサイトレポートは、リソグラフィ装置用超精密光学システムの世界的な見通しを形作る主要な市場動向、推進要因、および影響要因を評価し、タイプ別、用途別、地域別、市場規模別に予測を分類することで、新たな機会の領域を浮き彫りにします。数百件に及ぶボトムアップ型の定性的・定量的市場データに基づく透明性の高い方法論を用いることで、本調査の予測は、世界のリソグラフィ装置用超精密光学システム市場の現状と将来の動向について、極めて精緻な見解を提供します。

本レポートでは、製品タイプ、用途、主要メーカー、主要地域および国別に、リソグラフィ装置用超精密光学システム市場の包括的な概要、市場シェア、成長機会を提示します。

タイプ別セグメンテーション：

屈折型

反射型

技術別セグメンテーション：

DUV

EUV

対象プロセスセグメント別セグメンテーション：

フロントエンド・ウェーハ製造

バックエンド・アドバンスト・パッケージング

用途別セグメンテーション：

i線リソグラフィ装置

KrFリソグラフィ装置

ArFリソグラフィ装置

EUVリソグラフィ装置

本レポートでは、地域別にも市場を区分しています：

南北アメリカ

米国

カナダ

メキシコ

ブラジル

アジア太平洋地域（APAC）

中国

日本

韓国

東南アジア

インド

オーストラリア

欧州

ドイツ

フランス

英国

イタリア

ロシア

中東・アフリカ

エジプト

南アフリカ

イスラエル

トルコ

GCC諸国

以下に紹介する企業は、主要な専門家からの情報および各社の事業範囲、製品ポートフォリオ、市場浸透度を分析した上で選定されています。

ZEISS

キヤノン

ニコン

本レポートで取り上げる主な質問

世界のリソグラフィ装置用超精密光学システム市場の10年先の見通しは？

世界全体および地域別に、リソグラフィ装置用超精密光学システム市場の成長を牽引している要因は何か？

市場および地域別に、最も急速な成長が見込まれる技術はどれか？

リソグラフィ装置用超精密光学システム市場の機会は、エンド市場の規模によってどのように異なるか？

リソグラフィ装置用超精密光学システムは、タイプ別、用途別にどのように分類されるか？

各チャプターの構成

第1章「レポートの範囲」には、市場の紹介、調査対象期間、調査目的、市場調査方法、調査プロセスとデータソース、経済指標、考慮される通貨、および市場推定に関する注意点などの情報が記載されています。

第2章「エグゼクティブサマリー」には、世界の市場概要が収録されており、リソグラフィ装置用超精密光学システムの世界年間販売額（2021年～2032年）、地域別の世界市場の現状と将来分析（2021年、2025年、2032年）、国/地域別の世界市場の現状と将来分析（2021年、2025年、2032年）が含まれています。また、リソグラフィ装置用超精密光学システムのタイプ別（屈折型、反射型）のセグメント分析が詳細に記述されており、タイプ別の販売市場シェア（2021年～2026年）、収益と市場シェア（2021年～2026年）、販売価格（2021年～2026年）が示されています。さらに、技術別（DUV、EUV）のセグメント分析では、技術別の販売市場シェア（2021年～2026年）、収益と市場シェア（2021年～2026年）、販売価格（2021年～2026年）が提供されています。プロセスセグメント別（フロントエンドウェハー製造、バックエンド先端パッケージング）の分析では、プロセスセグメント別の販売市場シェア（2021年～2026年）、収益と市場シェア（2021年～2026年）、販売価格（2021年～2026年）が含まれています。最後に、アプリケーション別（i-lineリソグラフィ装置、KrFリソグラフィ装置、ArFリソグラフィ装置、EUVリソグラフィ装置）のセグメント分析では、アプリケーション別の販売市場シェア（2021年～2026年）、収益と市場シェア（2021年～2026年）、販売価格（2021年～2026年）が提供されています。

第3章「企業別グローバル分析」には、リソグラフィ装置用超精密光学システムの企業別の詳細な分析が示されています。これには、企業別の年間販売額（2021年～2026年）と販売市場シェア（2021年～2026年）、企業別の年間収益（2021年～2026年）と収益市場シェア（2021年～2026年）、企業別の販売価格が含まれています。また、主要メーカーのリソグラフィ装置用超精密光学システムの生産地域分布、販売地域、製品タイプ、プレイヤーが提供する製品に関する情報も記載されています。市場集中度分析として、競争状況分析、集中度（CR3、CR5、CR10）および（2024年～2026年）の分析も提供されています。さらに、新製品と潜在的な新規参入者、市場のM&A活動と戦略についても触れられています。

第4章「地域別のリソグラフィ装置用超精密光学システム世界歴史レビュー」には、地域別のリソグラフィ装置用超精密光学システムの世界歴史市場規模（2021年～2026年）が詳細に記述されており、地域別の年間販売額（2021年～2026年）と年間収益（2021年～2026年）が含まれています。国/地域別の世界歴史市場規模（2021年～2026年）も分析されており、国/地域別の年間販売額（2021年～2026年）と年間収益（2021年～2026年）が提供されています。その他、アメリカ大陸、アジア太平洋地域、ヨーロッパ、中東およびアフリカにおけるリソグラフィ装置用超精密光学システムの販売成長についても解説されています。

第5章「アメリカ大陸」には、アメリカ大陸におけるリソグラフィ装置用超精密光学システムの国別販売額（2021年～2026年）と収益（2021年～2026年）が記載されています。また、タイプ別販売額（2021年～2026年）とアプリケーション別販売額（2021年～2026年）も含まれています。米国、カナダ、メキシコ、ブラジルの各国の市場状況についても分析が提供されています。

第6章「アジア太平洋地域」には、アジア太平洋地域におけるリソグラフィ装置用超精密光学システムの地域別販売額（2021年～2026年）と収益（2021年～2026年）が詳述されています。タイプ別販売額（2021年～2026年）とアプリケーション別販売額（2021年～2026年）も提供されています。中国、日本、韓国、東南アジア、インド、オーストラリア、中国台湾の各国の市場状況も分析されています。

第7章「ヨーロッパ」には、ヨーロッパにおけるリソグラフィ装置用超精密光学システムの国別販売額（2021年～2026年）と収益（2021年～2026年）が記載されています。タイプ別販売額（2021年～2026年）とアプリケーション別販売額（2021年～2026年）も含まれています。ドイツ、フランス、英国、イタリア、ロシアの各国の市場状況についても分析が提供されています。

第8章「中東およびアフリカ」には、中東およびアフリカにおけるリソグラフィ装置用超精密光学システムの国別販売額（2021年～2026年）と収益（2021年～2026年）が詳述されています。タイプ別販売額（2021年～2026年）とアプリケーション別販売額（2021年～2026年）も提供されています。エジプト、南アフリカ、イスラエル、トルコ、GCC諸国の各国の市場状況も分析されています。

第9章「市場の推進要因、課題、トレンド」には、市場の推進要因と成長機会、市場の課題とリスク、および業界のトレンドに関する分析が含まれています。

第10章「製造コスト構造分析」には、原材料とサプライヤー、リソグラフィ装置用超精密光学システムの製造コスト構造分析、製造プロセス分析、および産業チェーン構造に関する詳細な情報が提供されています。

第11章「マーケティング、販売業者、顧客」には、販売チャネル（直接チャネル、間接チャネル）、リソグラフィ装置用超精密光学システムの販売業者、および顧客に関する分析が記述されています。

第12章「地域別のリソグラフィ装置用超精密光学システム世界予測レビュー」には、地域別のリソグラフィ装置用超精密光学システムの世界市場規模予測（2027年～2032年）が記載されており、地域別の年間収益予測（2027年～2032年）も含まれています。アメリカ大陸、アジア太平洋地域、ヨーロッパ、中東およびアフリカの国別予測（2027年～2032年）も提供されています。また、タイプ別予測（2027年～2032年）とアプリケーション別予測（2027年～2032年）も含まれています。

第13章「主要プレイヤー分析」には、ZEISS、Canon、Nikonといった主要企業の詳細なプロファイルが含まれています。各企業について、会社情報、リソグラフィ装置用超精密光学システムの製品ポートフォリオと仕様、販売額、収益、価格、粗利益（2021年～2026年）、主要事業概要、および最新の動向が分析されています。

第14章「調査結果と結論」には、本調査レポートで得られた主な発見と結論がまとめられています。

リソグラフィ装置用超精密光学システムについて

リソグラフィ装置用超精密光学システムは、半導体製造において不可欠な役割を果たしています。このシステムは、半導体デバイスの微細なパターンをウェーハに転写するための光学系を指します。リソグラフィとは、光を使用して特定のパターンを基板に描画する技術であり、主にフォトリソグラフィという手法が用いられています。フォトリソグラフィでは、感光性材料であるフォトレジストを使用し、光によりその構造を変化させることでパターンを形成します。このプロセスは、半導体の微細化に伴い、ますます高精度化が求められています。

超精密光学システムの主要な種類には、ステッパーとスキャナーが含まれます。ステッパーは、小さなエリアに高解像度のパターンを一度に転写し、その後ウェーハを移動させることで、全体をカバーします。これに対し、スキャナーはウェーハ全体を一度にスキャンしながら転写を行います。スキャナーは高速処理が可能であり、大量生産に向いているため、現在の主流技術となっています。

これらの光学システムは、複数の光学素子から構成されており、通常はレンズ、ミラー、ホログラフィック素子などを使用します。高い解像度を実現するためには、アパーチャーや焦点深度が非常に重要です。最近では、極紫外線（EUV）リソグラフィ技術が注目されています。EUVリソグラフィは、波長が非常に短い光を使用することで、さらなる微細化を可能にします。これに伴い、光学系も新たな設計が求められ、革新的な材料や製造技術が導入されています。

超精密光学システムの用途は非常に広範囲です。主に半導体製造だけでなく、電子機器、医療機器、光学デバイスなど、多岐にわたる分野で利用されています。特に半導体デバイスでは、トランジスタの微細化や集積化が進むにつれ、リソグラフィ技術の重要性が増しております。これにより、ますます高解像度のデバイスが市場に投入され、より高性能な電子機器の実現が可能となっています。

関連技術としては、ナノインプリントリソグラフィや電子ビームリソグラフィがあります。ナノインプリントリソグラフィは、物理的な型を用いてパターンを転写する手法です。この技術は、非常に高い解像度を持ちながらコストを抑えられることから、注目されています。電子ビームリソグラフィは、電子線を使用して高精度なパターンを形成する技術で、高解像度の試作や研究開発に利用されます。

さらに、新たな材料開発も重要な要素として挙げられます。次世代のフォトレジストや反射防止コーティングの開発は、リソグラフィプロセスの精度や効率を向上させるために不可欠です。また、デジタルオプティクス技術の進展により、光学系が動的に調整されることが可能になり、操作性や加工精度が大幅に向上しています。

このように、リソグラフィ装置用超精密光学システムは、半導体産業や関連分野において非常に重要な位置を占めており、テクノロジーの進化とともにその役割はますます重要になっています。より高精度なリソグラフィ技術が求められる中で、光学システムの革新は今後も続くことでしょう。